旋转锌铝靶 Rotatable ZnAl target,应用:主要用于制作ZnO.Al2O3 膜,广泛用于TCO玻璃,热反射玻璃,Low-E玻璃膜。氧化锌是一种透明导电膜材料。以ZnO粉末和Al_2O_3粉末为主要原料,以常压、空气气氛烧结为手段制备透明导电膜用ZnO陶瓷靶材。研究结果表明:粉末成型压力为3MP时,靶材电学性能佳;当Al:Zn原子比为4.100时,ZnO的电阻率低,达4.1×10~
2024-08-30 面议/公斤目前,国内外镍铬合金靶材在纯度方面的差距显著,国内所生产的镍铬合金靶材能达到4N级,而日本相关靶材厂家制备的镍铬靶可以达到5N以上。超高纯、高利用率与良好的溅射沉积均匀性是高质量靶材所追求的优良特性,因此在靶材基本制备方法的基础上,需要不断优化工艺提高靶材质量,具体地,从高纯化、提高磁透率(PTF)以及组织结构控制等方面提高靶材质量,将成为镍铬合金靶材制备工艺的发展趋势。 靶材的组织结构控制也与溅
2024-08-30 面议/千克? ? 半导体是对靶材组成、结构和性能要求级高的领域。中国半导体靶材市场增长迅速。尤特新材主要产品为各种高纯溅射靶材,包括铝靶、钛靶、钽靶、钨钛靶等,这些产品主要应用于超大规模集成电路芯片、液晶面板、薄膜太阳能电池制造的物理气相沉积(PVD)工艺,用于制备电子薄膜材料。目前,公司产品主要应用于半导体、平板显示器及太阳能电池等领域。在超大规模集成电路用高纯金属靶材领域,公司成功打破美国、日本跨国公司
2024-08-29 面议/套? ? ? 国外对高纯金属材料的开发研究较早,日本、美国、英国和俄罗斯等国家意志以来都十分重视高纯金属材料的研制、生产和应用。其生产的高纯金属材料品种齐全、质量好、产量大,产品纯度较高可达6N以上。尤特新材料,多年来致力于对贵重金属材料的研发和生产,为客户提供一站式的解决方案,公司拥有成熟的货品靶材的循环回收利用的技术及设备,有效为客户提高材料利用效率和节约资源。靶材的利用率达到70%以上,并成为
2024-08-29 面议/套? ? 尤特新材的薄膜材料,可分为溅射靶材、蒸镀材料与镀膜配件三大产品线,主要应用于光学、光通信、平板显示、触控面板、集成电路、LED芯片、Low-E玻璃、装饰镀膜、工具镀膜、光伏、光磁存储等领域。UVTM扎根于中国本土市场,同时积极拓展海外市场,产品远销日本、韩国、新加坡、美国、德国等国家,并与大部分国家知名光电技术企业建立了长期的战略合作伙伴关系,是目前国内薄膜材料行业设备先进、技术水平高、产
2024-08-29 面议/套? ? ? 绑定式磁控溅射旋转靶材,包括背管(I)和固定套结在背管(I)外壁的靶管(3),其特征在于:所述固定套结在背管(I)外壁的靶管(3)为至少一个,所述背管(I)外壁设有开口槽(2),靶管(3)通过填充在开口槽(2)内的无铟钎焊材料旋转加热焊接固定在背管(I)夕卜壁。2.根据权利要求1所述绑定式磁控溅射旋转靶材,其特征在于:所述开口槽(2)为半圆形螺旋槽。3.根据权利要求2所述绑定式磁控溅射
2024-08-29 面议/套? ? ? 中国集成电路材料现状如何?靶材是薄膜制备的关键原料之一,半导体在靶材应用中约占10%。2016年靶材市场增速达到20%,2017年-2019年仍将保持复合增速13%,到2018年大部分国家靶材市场空间达到983亿元,超越大部分国家金属钴和碳酸锂合计941亿元的市场,未来潜力巨大。高纯金和高纯银因具有接触电阻小,热阻低,热效应力小和可靠性高等优点,其靶材材料广泛应用于背面金属化系统、汽车
2024-08-29 面议/套芯片制造对溅射靶材金属纯度的要求较高,通常要达到99.9995%以上,而平板显示器、太阳能电池分别要求达到99.999%、99.995%以上即可。除了纯度之外,芯片对溅射靶材内部微观结构等也设定了极其苛刻的标准,需要掌握生产过程中的关键技术,并经过长期实践才能制成符合工艺要求的产品。半导体制造流程当中,溅射靶材无疑是重中之重的原材料,其质量和纯度对半导体产业链的后续生产质量起着关键性作用。非常高纯
2024-08-29 面议/套半导体材料主要分为晶圆制造材料和封装材料,制造材料包括硅片(37%)、光刻胶、光刻胶配套试剂、湿电子化学品、电子气体、CMP抛光材料、以及靶材等;(39%)、引线框架、树脂、键合丝、锡球、以及电镀液等。在国内占据了大部分中等和要求不高的靶材市场份额。国内靶材公司的发展趋势如何?目前全球高端靶材市场主要分布于韩国、宝岛、中国、日本,主要供应商在日本,韩国。 中国市场目前年消耗ITO靶材约300吨,但
2024-08-29 面议/千克