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主营:溅射靶材,镀膜靶材,金属靶材,旋转靶材,平面靶材,喷涂靶材,靶材,UV玻璃油墨

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    ? ? ? 合金靶材: 铬铝合金靶,金钯合金,金锡合金,金锗镍合金,铝钒合金靶,铝铬钇合金靶,铝硅合金靶,铝硅铜合金靶,铝铁合金靶,镁铬合金靶,钼镍合金靶,镍铂合金靶,镍钒合金靶,镍铬合金靶,镍铬铝钇合金靶,镍硅合金靶,镍碳合金靶,镍铁合金靶,坡莫合金靶,镍铜合金靶,钛硅合金靶,钛铝硅合金靶,钛硅碳合金靶,钛铝合金靶,钛镍合金靶,钛钨合金靶,铁碲合金靶,铁铬钴合金靶,铁钴合金靶,铁镍合金靶,铁钴镍

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    ? ? ? UVTM拥有广东省“科技小巨人”企业称号、“广东省省钨钼深加工工程实验室”、“深圳市钨钼靶材工程技术研究中心”、“深圳市钨钼深加工工程研究中心”、“深圳市钨钼深加工研发中心”、“深圳市企业技术中心”、“广东省钨钼靶材及硬质合金新材料产业技术创新战略联盟”盟主称号,与国内多所高校、研究院所建立了良好的产学研合作关系,为公司技术研发提供良好的服务平台,提高企业科研创新活力。 ? ? ? 目

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    ? ? ? 钛硅合金材料是一种高熔点的金属间化合物,具有低的密度、良好的舒缓反应性,因而受到广泛的重视。TiSi2是一种重要的硅化物,具有较好的高温稳定性、较高的高温强度和良好的舒缓反应能力,有希望成为1200℃以上使用的结构材料。由于其电阻和热阻均较低,TiSi2也有希望应用于电气连接和扩散阻挡层,目前已被作为欧姆接触和金属互联材料广泛用于超大规模集成电路制造技术中。形成钛硅涂层,用磁控溅射法,

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    ? ? ? 钛硅合金(TiSi)具有低电阻率、较高的热稳定性以及化学稳定性等诸多不错的性能。传统的钛硅合金的制备是采用纯金属钛和硅为原料制备的,由于金属钛制备成本高,工艺流程长,导致制备的钛硅合金成本较高。工业用硅粉、碳粉和碳化钛为原料,利用放电等离子烧结技术原位反应制备了TiSi2/SiC两相复合材料。弱放热反应TiSi2燃烧合成的粉末冶金技术,用自蔓延高温燃烧法合成了TiSi2单相化合物,其合

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    半导体芯片的需求市场比较庞大,集中在手机、PC、、AI、物联网、电子汽车、5G等领域,庞大的市场还是手机、PC、可穿戴设备等电子消费产品。大部分国家电子产品消费市场都不景气,且短期内很难迎来报复性增长。中国的集成电子领域是一个稳步增长的发展阶段,中芯国际等优势企业像雨后春笋般涌现出来。微电子靶材这块,该属于第二梯队,梯队仍然是日本的公司和美国的霍尼尔等公司。在过去十几年里,中国的微电子靶材从零开始

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    真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片,镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜,可

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    目前制备薄膜电池较为常用的溅射靶材包括铝靶、铜靶、钼靶、铬靶以及ITO靶、AZO靶(氧化铝锌)等,HIT电池主要使用ITO靶材作为其透明导电薄膜。靶材也逐步向国产化方向努力;设备进口替代降低投资成本。机构预测,到2023年,国内光伏电池用溅射靶材市场将达60亿元。磁记录靶材市场可达107亿元,显示面板用靶材市场规模有望达到246亿元。溅射靶材种类繁多,就ITO导电玻璃中使用硅靶.铝靶.铌靶等三种以

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    芯片制造对溅射靶材金属纯度的要求较高,通常要达到99.9995%以上,而平板显示器、太阳能电池分别要求达到99.999%、99.995%以上,若溅射靶材的杂质含量过高,形成的薄膜就无法达到使用所要求的电性能,将严重影响薄膜的性能。目前,全球的靶材制造行业在高纯度的靶材市场,呈现寡头垄断格局,主要由几家美日大企业把持着,如日本的三井矿业、日矿金属、日本东曹、住友化学、日本爱发科,以及美国霍尼韦尔、

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    ? ? 太阳能电池用铝靶的金属纯度略低,99.995%(4N5)以上。高纯货品靶材被誉为半导体芯片材料的强者,半导体产业对溅射靶材和溅射薄膜的品质要求非常高,随着更大尺寸的硅晶圆片制造出来,相应地要求溅射靶材也朝着大尺寸、高纯度的方向发展,同时也对溅射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求。高纯货品靶材在电子信息产业中的应用广泛,因货品有良好的化学稳定性,高电导率、热导率,以及特有的电学、磁学、光学等

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