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广州市尤特新材料有限公司

主营:溅射靶材,镀膜靶材,金属靶材,旋转靶材,平面靶材,喷涂靶材,靶材,UV玻璃油墨

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    ?ITO靶材产业发展现状及其对我国触控面板产业的影响。如何烧制是个问题,而烧结大尺寸的ITO靶材就意味着需要大型的炉子。首先需要把氧化铟和氧化锡粉末按严格的比例混合,然后生产加工成地板砖的形状,1700摄氏度的高温烧制,形成的黑灰色陶瓷半导体就是ITO靶材。 全球铟的保有量只有1.6万吨,中国的铟保有量约1万吨,到62%。接下来是秘鲁的580吨、加拿大的560吨、美国的450吨,分别占全球保有量的

    2024-08-29 面议/套
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    真空镀膜机的发展相当迅速,随着生产率的提高,生产费用大大降低,已经为真空镀膜产品的普遍使用铺平了道路。以卷绕式真空镀膜机为例,刚开发时可镀的薄膜基材宽度是150mm,目前已达2253mm。基材卷筒的卷径是1000mm,卷绕速度750m/min。自动装卸的半连续卷绕式真空镀膜机镀膜占整个周期的75%,操作只占25%。随着计测技术、控制技术的进步和电子计算机的应用,卷绕式真空镀膜机正向着高度自动化和高

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    ? ? ? 高温纳米陶瓷涂层是将复合稀土纳米陶瓷浆料喷涂于金属或者非金属表面,经干燥固化升温后,星骋复合稀土纳米陶瓷薄膜层,纳米陶瓷层具有不错的高温稳定性、抗腐蚀能力和硬度及非浸润性的表面力学性能。高温纳米陶瓷材料涂层的作用机理如下:(1)致密的陶瓷薄膜隔绝了基质与外部环境的接触,同时发挥了纳米陶瓷层的舒缓反应性,耐高温腐蚀、耐磨损等性能,附着在基材表面,一体提升基材性能和可靠性,有效防止基材的氧

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    旋转氧化铌靶(NbOxSputteringTarget)主要用于光学玻璃、平面显示行业、建筑玻璃镀膜行业、薄膜光伏太阳能电池电较膜系等,可生产狗骨型,或按客户要求定制靶材。在半导体材料行业中,国产靶材替代国外靶材已经崭露头角,呈现定点打破局面,正是需要社会资金大力投入奋力追赶之关键时刻。价格也昂贵,这方面的要求明显高于平面显示器、太阳能电池等其他应用领域。在硅片的正面和背面制造非常精细的电路,将光

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    大部分国家应用于笔记型计算机及平板计算机的触控面板模块产值估计将达到57亿美元,年增长率将超30%。触控面板的产业链很长,主要包括AMOLED、玻璃基板、玻璃硬化、薄膜基材、驱动IC、ITO靶材、ITO膜、玻璃传感器、薄膜传感器、玻璃模组、薄膜模组等子行业。溅射靶材及溅射技术的同步发展,较大地满足了各种新型电子元器件发展的需求。 半导体芯片行业用的金属溅射靶材,主要种类包括:铜、钽、铝、钛、钴和钨

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    铝钕靶材主要是用于平面显示器、触摸屏的玻璃基板电极层的镀膜。目前主要是 用真空熔炼和热压烧结方法研发和生产小尺寸平面靶,大尺寸靶是通过小尺寸拼接形成。 由于不是一体化(需要拼接)容易产生电弧放电,因此成膜质量差,难以真实应用到高质量 的显示屏、触摸屏上。尽管,人们已经采用真空熔炼生产空心铝钕靶靶管,并通过铟焊绑定 到不锈钢背管上生产铝钕旋转靶材。由于铟焊料昂贵(占整个靶材成本50% )导致铝钕 旋

    2024-08-27 0
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    溅射靶材主要应用在平板显示、记录媒体、光伏电池、半导体等领域。其中,在溅射靶材应用领域中,半导体芯片对溅射靶材的金属材料纯度、内部微观结构等方面都设定了极其苛刻的标准。高纯靶材主要用于对材料纯度、稳定性要求更高的领域,像集成电路、平板显示器、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等行业。在溅射靶材应用领域中,半导体芯片对溅射靶材的要求是比较高的,要求靶材纯度很高,一般在5N(99.999%)以上。随着电子

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    ? 钛铝合金靶材主要用于五金装饰的耐磨、耐腐蚀硬膜,LOW-E镀膜玻璃,半导体电子加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,对于货品靶材,若剩余下的高纯残靶若以普通废料进行处理,将会是对稀贵材料的较大浪费;同时,靶材从原材料到加工成成品,成材率一般只有40%-80%,大量的余料和残屑需要更新循环利用。对于货品靶材,由于材料价格昂贵,迫切需要对加工过程的余料残屑的提纯再利用及对残

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    靶材如何应用于半导体行业?半导体芯片行业用的金属靶材,主要种类包括:钽、铜、钽、铝、钛、钴和钨等高纯靶材,以及镍铂、钨钛等合金类的靶材。溅射靶材种类繁多,就ITO导电玻璃中使用硅靶.铝靶.铌靶等三种以上。溅射靶材根据材料可分为金属材料(纯金属铝/钛/铜/钽等)、合金材料(镍铬/镍钴合金等)、无机非金属(陶瓷化合物:氧化物/硅化物/碳化物等)、溅射靶材种类繁多,就ITO导电玻璃中使用硅靶.铝靶.铌靶

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