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? ? ? 钛及钛合金具有不错的物理、化学和机械性能，在各领域有广泛应用。通过制备钛涂层可显著提高零部件表面耐腐蚀性。采用超音速等离子喷涂技术（SAPS）制备了钛涂层，结果表明：制备的钛涂层均匀致密，孔隙率平均为 1.7%，沉积效率平均为 52%，涂层中主要为 Ti相，O含量小于3%、N 含量小于 5%,制备的钛涂层性能较好，与低压等离子喷涂、冷喷涂相比较，涂层制备成本更低，操作更便捷，在工业应用

? ? ? 磁控溅射是制备薄膜材料的主要技术，也是PVD的一种。它通过在PVD设备中用离子对目标物进行轰击，使得靶材中的金属原子以一定能量逸出，从而在晶圆表面沉积，溅镀形成金属薄膜，其中被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料。称为溅射靶材。氮化物是在电子和光电子应用方面有较大潜力的新型半导体材料,它在室温下具有高电子迁移率和良好导电性的优势。是目前大部分国家半导体研究的****和热点，是研制微电子

旋转银靶，主要用于Low-E玻璃膜系，薄膜太阳能电池电极膜系,TFT,半导体。近年，冷喷涂作为一种新型喷涂工艺被用在金属表面制备高质量的金属涂层。与传统的热喷涂工艺相比，冷喷涂工艺的典型特点是利用较低的工作气体温度（室温~600 ℃）形成涂层，因此，可利用冷喷涂工艺的优势在不改变喷涂原材料组织结构的前提下制备涂层。研究人员用AZ31镁合金作为基体，喷涂粉末分别用粒径为25mm和40mm铝粉。研究发

? ? ? 靶材，特别是高纯度溅射靶材应用于电子元器件制造的物理-气相沉积工艺（PVD）、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。所谓溅射，是制备薄膜材料的主要技术，也是PVD的一种。它通过在PVD设备中用离子对目标物进行轰击，使得靶材中的金属原子以一定能量逸出，从而在晶圆表面沉积，溅镀形成金属薄膜，其中被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料。称为溅射靶材。 ? ? ? 薄膜太阳能电池比传统的晶体硅太

硅的原子结构决定了硅原子具有一定的导电性，但由于硅晶体中没有明显的自由电子，因此导电率不及金属，且随温度升高而增加，因而具有半导体性质。微电子领域对靶材溅射薄膜的品质和电阻要求是相当苛刻的。硅片制造商对靶材的要求是大尺寸、高纯度、低偏析和细晶粒，这就要求所制造的靶材具有更好的微观结构。电阻率是硅靶材产品的重要参数之一，除特殊用途外，绝大多数硅靶材电阻率要求越低越好，开始应用时电阻率要求在0.1-0

? ? ? 平板显示靶材技术要求也很高，它要求材料高纯度、面积大、均匀性程度高。铝、铜、钼、铬等，主要应用于薄膜太阳能电池，太阳能靶材技术要求高、应用范围大。信息存储靶材的原材料有铬基、钴基合金等，用于光驱、光盘、机械硬盘、磁带等。信息存储靶材具备高存储密度、高传输速度等特性。溅射靶材种类繁多，就ITO导电玻璃中使用硅靶.铝靶.铌靶等三种以上。根据应用领域的不同，靶材的材料、形状也会有所差异。根据

? ? ? 预计在2021年异质结的产能会提升至10.5GW。随着异质结技术的逐渐成熟，也可和其他光伏电池技术相结合，例如异质结 I电池、异质结钙钛矿叠层电池。作为行业内率先布局异质结的企业之一，东方日升在HJT技术研发、量产等方面均具备****优势。其推出的行业内首半片HJT组件产品，效率高达21.9%，温度系数为-0.24%/℃。用准确仪器设备在半导体芯片各个功能层上镀覆一层薄薄的透明金属导电

? ? ? AZO靶材是其中一种制造高科技节能玻璃镀膜材料。银铜合金靶材供应。陶瓷靶材。UVTM拥有真空等离子喷涂、真空熔炼炉、数控线切割、热等静压等生产设备，热喷涂、难熔金属及液晶材料生产线。公司在大力拓展市场的同时，不断完善内部体制。尤特新材在2009年率先在同行业中通过了ISO2008质量体系认证。为满足高等客户严格要求，公司与多所国内高校、研究院、业内相关人士进行交流和合作，并建立了400

? ? 20世纪90年代以来靶材已蓬勃发展成为一个专业化产业，中国及亚太地区靶材的需求占有世界70%以上的市场份额。大量不同的沉积技术用来沉积生长各种薄膜 ，而靶材是制作薄膜的关键，品质的好坏对薄膜的意义重大。目前高等品质靶材主要由:日本、德国和美国生产，我国靶材产业起步较晚，在产品质量与精细标准上与国外有不少的差距，国内也有许多大学及研究机构对靶材积极投入了大量钻研与开发，经过这几年的发展也涌现