广州市尤特新材料有限公司

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? ? 半导体材料可以分为晶圆材料和封装材料，封装材料相较于晶圆制造材料来说技术壁垒相对较低，所以我们主要讲的是晶圆制造材料。半导体材料市场占比在3%左右的溅射靶材。简单地说，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，通过更换不同的靶材（如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。科技日报：ITO靶材是35项卡脖子技术之一。2018年，尤特成立ITO靶材部，目前已

2024-08-23 面议/套

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? ? ? 在靶材领域，日本的日矿金属、霍尼韦尔、东曹、普莱克斯占据了大部分市场。相比之下，甚至是整个韩国半导体产业链在半导体材料方面几无建树，而且导致了对于日本半导体材料的高度依赖。去年日韩贸易战中，日本列入限制出口名单的高纯度材料，其主要用途为半导体的湿式刻蚀。尽管全世界各大厂生产的材料几乎都能99.99%的纯度，但却唯有日本厂商的材料能将纯度达到99.999%。溅射工艺属于物理气相沉积(PV

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? ? 溅射靶材属于新材料，是国家重点鼓励、扶持的战略性新兴行业。按照《上市公司行业指引（2012 年修订）》，货品溅射靶材的生产可以归类为制造业下的其他制造业，行业主管部门为工业和信息化部，其负责行业、产业政策制定及行业发展规划，对行业的发展方向进行宏观调控。行业内的企业基于市场化方式自主安排生产经营。 ? ? Oled对靶材有什么要求？难度会高些，量的话可能会对铝靶材高些，因为需要折叠，铜的不

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? ? ? 镀膜靶材可以应用到LED、OLED、LCD、PDP、VFD、FED、LCOS、DLP、CRT等显示行业中各种功能层。平板显示器主要分为触控面板和液晶面板。触控面板（Touch Panel），又称为触摸屏，尤特新材料主要为客户提供电阻式、电容式触摸屏高品质靶材，其种类包括：ITO靶材、硅靶材、铌靶材、钼靶材、钽靶材、铝靶材、铬靶材等。 ? ? ? 由于HJT电池的工艺要求较高，因此ITO

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? ? ? 氧化锌是一种透明导电膜材料。以ZnO粉末和Al2O3粉末为主要原料,以常压、空气气氛烧结为手段制备透明导电膜用ZnO陶瓷靶材。研究结果表明:粉末成型压力为3MP时,靶材电学性能佳;当Al:Zn原子比为4.100时,ZnO的电阻率低,达4.1×10~(-3)Ω·㎝,当Al掺杂量超过某一数值后,Al不再以替位离子形式存在,而是与周围的Zn、O原子共同作用,生成锌铝尖晶石相,从而导致材料的电

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溅射靶材的金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材，氮化物陶瓷溅射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材，硅化物陶瓷溅射靶材，硫化物陶瓷溅射靶材，碲化物陶瓷溅射靶材，其他陶瓷靶材，掺铬一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化铟靶材(InP)。金属靶材：镍靶、Ni、钛靶、T溅射靶材i、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、N

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铟靶材作为优良的接触材料广泛应用于半导体制造中，镍铂合金溅射靶材成为保证半导体器件性能和发展半导体技术的关键材料，其不断增长的需求量为中国贵金属靶材制造业的发展提供了机遇和挑战。 ? 利用冷喷涂技术生产金属合金靶材，可大大提高防护寿命，物膜，能有效阻止腐蚀介质向内部渗透，并保持较低的腐蚀速率。冷喷涂技术制备的涂层具有氧化物含量低、涂层热应力小、硬度高、结合强度好。近年，冷喷涂作为一种新型喷涂工艺

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近年来随着中国经济步入中低速发展阶段，中国房地产和电子设备等产业转型升级，中国镀膜玻璃产业发展进入结构调整期。而且，国内镀膜玻璃生产企业数量较多，产能重复建设严重，行业市场竞争激烈。据统计，存储市场增速则达到57%，且中国一直长期是集成电路消费大国，一般都是包括主体型号、前缀、后缀等组成，成为业界追逐的一大风口，信息、通讯、消费电子及汽车电子等高等电子产品EMS、JDM、ODM为主。如二极管就是采

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? ? ? 热喷涂也有缺点：喷涂作业环境差、粉尘严重、喷涂材料利用率低、热效率低、难以制备厚度较大的覆层材料等。随着技术的革新，冷喷涂技术出现，进一步优化了喷涂的技术。冷喷涂制备的陶瓷涂层和金属涂层，致密性比热喷涂更高，而含氧量则更低。陶瓷涂层已成功应用于航空、航天、国防、化工、机械、电力、电子等行业。金属表面陶瓷涂层能改变金属基体表面的形貌、结构与化学组成，并赋予基体新的性能。在广州，已经有企业

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