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? ? ? 预计年我国溅射靶材的市场规模有望持续扩大，复合增速将维持在2016年20%左右增速水平。大部分国家铟消费的70%都用来生产ITO靶材电子半导体和无线电领域铟具有沸点高、低电阻和抗腐蚀等特性，在电子半导体和无线电行业也有广泛应用。有相当大部分的金属铟用于生产半导体材料。在无线电和电子工业中，铟用于制造特殊的接触装置，即将铟和银的氧化物经混合后压制而成。为了提高LED芯片的出光效率，人们想

高真空镀膜机一般由以下几部分组成：真空系统、高真空镀膜工作室、电气控制与安全保护系统。采用电阻加热，可加热蒸发各种非难熔的金属与非金属材料。电极用橡胶圈与真空室底版密封，为了防止在加热时电极过热致使密封，对电极通水冷却。电阻加热元件采用高熔点的金属钼片制成舟状，机械泵：机械泵是利用机械方法来获得低真空的主要设备，也是高真空机组的前级泵。机械泵主要有圆柱形定子、偏心转子和滑动翼片组成。机械泵不宜用于

一种高致密度的硅铝旋转靶材的制备方法，它具有工艺简单、所制备的靶材品质较佳的特点。本发明所采用的技术方案是：高致密度的硅铝旋转靶材的制备方法，包括以下步骤：(1)制备喷涂粉末；(2)预处理靶材背管；(3)对靶材背管喷涂打底层；(4)用等离子喷涂工艺在靶材背管上制备硅铝靶材。所述步骤(1)中，制备喷涂粉末的方法为：以质量百分比计，将90％-92％的硅粉与8％-10％的铝粉混合后，在V型混粉机中均匀混

? ? 太阳能电池主要包括晶体硅太阳能电池和薄膜太阳能电池， PVD 工艺主要应用于薄膜太阳能电池中。晶体硅太阳能电池效率较高、性能稳定，且各个产业环节比较成熟，占据了太阳能电池市场的主要地位。与晶体硅太阳能电池相比，薄膜太阳能电池材料用量大大减少，从而大幅降低了制造成本和产品价格，同时，薄膜太阳能电池还具有制造温度低、应用范围大等特点。21 世纪以来，大部分国家光伏产业迅速发展。近年来，随着国家

? ? ? ITO究竟是什么？ITO是IndiumTinOdes的缩写，即掺锡氧化铟。是透明导电氧化物TCOs的一种，由于良好的导电性和透明性的组合性能，成为主要的透明导电材料。靶材的主要性能要求纯度纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”,8“发展到12”,而布线宽度由0.5um

? ? 磁控溅射是一种物理气相沉积的。溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。磁控溅射靶材广泛应用于用于建筑/汽车玻璃工业、薄膜太阳能工业、平面显示工业、装饰/功能镀膜工业。随着国内靶材行业研

? ? ? 靶材的分类方法很多，按材质、按形状、按应用领域。按形状可分为长靶、方靶、圆靶。按材质可分为金属靶材（纯金属铝、钛、铜、钽等）、合金靶材（镍铬合金、镍钴合金等）、陶瓷化合物靶材（氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等）。按应用领域靶材可分为半导体芯片靶材、平板显示靶材、太阳能电池靶材、信息存储靶材、工具改性靶材、电子器件靶材、其他靶材。稀土领域，UVTM是全国范围内稀土技术能力比较一体的后起之

? ? ? 由MOCVD系统生成的材料体系。平板显示器件都要用到各种类型的薄膜，没有薄膜技术就没有平板显示器件。平板显示器多由金属电极、透明导电极、绝缘层、发光层组成，为了保证大面积膜层的均匀性，提高生产率和降低成本，几乎所有类型的平板显示器件都会使用大量的镀膜材料来形成各类功能薄膜，其所使用的PVD镀膜材料主要为溅射靶材，平板显示器的很多性能如分辨率、透光率等都与溅射薄膜的性能密切相关。平板显示

? ? ? 难熔金属一般指熔点高于1650°C并有一定储量的金属，包括钨、钽、钼、铌、铪、铬、钒、锆和钛，也有将熔点高于锆熔点即1852°C的金属称为难熔金属。以这些金属为基体，添加其他元素形成的合金称为难熔金属合金。[0003]作为溅射靶材使用的难熔金属主要指钨钼钽铌。难熔金属材料作为溅射已经运用在包括液晶显示器、薄膜太阳能光伏、智能玻璃在内的多个领域。其中难熔金属旋转靶材是制造难熔金属薄膜的必