科研实验专用硼靶材B磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料 产品介绍 ? ? ? 硼(B)不溶于水,粉末状的硼能溶于沸硝酸和硫酸,以及大多数熔融的金属(如:铜、铁、锰、铝和钙),常温时能与氟反应,不受盐酸和氢氟酸水溶液的腐蚀;硼为黑色或深棕色,硬度仅次于金刚石,质地较脆,在空气中氧化时由于三氧化二硼膜的形成而阻碍内部硼继续氧化;硼在常温时为弱电导体,而在高温时导电良好。在自然界中主要以硼酸和硼酸盐的形式存在
2021-03-23 面议/个产品介绍 ? ? ? ?铝(Al)为银白色轻金属,有延展性,不溶于水,但可以和热水缓慢地反应生成氢氧化铝在潮湿空气中能形成一层防止金属腐蚀的氧化膜;用酸处理过的铝粉在空气中加热能猛烈燃烧,并发出眩目的白色火焰。铝以其轻、良好的导电和导热性能、高反射性和耐氧化而被广泛使用;做日用皿器的铝通常叫“钢精”或“钢种”;铝及铝合金是当前用途十分广泛的、经济适用的材料之一。 产品参数 中文名 铝? ? ? ?
2021-01-07 面议/片产品介绍 ? ? ? ?氧化铝(Al2O3)在矿业、制陶业和材料科学上又被称为矾土,是一种高硬度的两性氧化物,能溶于无机酸和碱性溶液中,几乎不溶于水及非较性农业生产体系溶剂;白色固体,无臭、无味、质较硬,易吸潮而不潮解(灼烧过的不吸湿)。在高温下可电离的离子晶体,常用于制造耐火材料。用作分析试剂、农业生产体系溶剂的脱水、吸附剂、农业生产体系反应催化剂、研磨剂、抛光剂、冶炼铝的原料、耐火材料。 产品
2021-01-07 面议/件科研实验专项使用氧化铟锡靶材ITO磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料 产品介绍 ? ? ? ? ITO 是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡,ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜,通常有两个性能指标:电阻率和透光率。多用于触控面板、触摸屏、冷光片等。 产品参数 中文名 氧化铟锡? ? ? ? 化学式 In2O3-SnO2? ? ? 分子量 428.343? ? ? ? ?熔点 287℃ 密度 1.2g/m
2021-01-07 面议/件科研实验专项使用氧化镓靶材Ga2O3磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料 产品介绍 ? ? ? ?氧化镓(Ga2O3)别名是三氧化二镓,是一种宽禁带半导体,Eg=4.9eV;不溶于水,微溶于热酸或碱溶液,易溶于碱金属氢氧化物和稀无机酸;有α,β两种变体,α型为白色菱形六面体,熔点:1900℃(在600℃时转化为β型)。用作高纯分析试剂、用于电子工业半导体材料制备。它是一种透明的氧化物半导体材料,在光电子器
2021-01-07 面议/件科研实验专项使用氧化铪靶材HfO2磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料 产品介绍 ? ? ? 氧化铪(HfO2)常温常压下为白色固体,熔点:2758℃,沸点:5400℃,密度:9.68g/cm?,难溶于水,常温常压下稳定,避免与酸接触;当加热到高温时铪与氧直接化合生成氧化铪;也可通过其硫酸盐或草酸盐经灼烧而得。用于光谱分析及催化剂体系,耐熔材料;是一种具有宽带隙和高介电常数的陶瓷材料,近来在工业界特 产品
2021-01-07 面议/件科研实验专项使用 二氧化硅靶材SiO2磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料 产品介绍 ? ? ? ?二氧化硅(SiO2)常温下为固体,不溶于水,是酸性氧化物,不跟一般酸反应,但溶于氢氟酸及热浓磷酸,能和熔融碱类起作用。自然界中存在有结晶二氧化硅和无定形二氧化硅两种。结晶二氧化硅因晶体结构不同,分为石英、鳞石英和方石英三种。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光导纤维、电子工业的重要部件、光学仪器、工艺品
2021-01-07 面议/件科研实验专项使用硅靶材Si一氧化硅靶材SiO磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料 产品介绍 ? ? ? ?硅是地球上储藏丰富的材料之一,熔融的单质硅在凝固时硅原子以金刚石晶格排列成许多晶核,如果这些晶核长成晶面取向相同的晶粒,则这些晶粒平行结合起来便结晶成单晶硅。单晶硅是一种比较活泼的非金属元素,是晶体材料的重要组成部分,处于新材料发展的。单晶硅具有准金属的物理性质,有较弱的导电性,其电导率随温度的升高而
2021-01-07 面议/件科研实验专项使用钐靶材Sm氧化钐靶材Sm2O3磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料 产品介绍 ? ? ? ? 氧化钐(Sm2O3)为淡颜色粉末,易潮解,不溶于水,易溶于无机酸。密度:8.347g/cm?,熔点:2262℃。不溶于水,可溶于酸。在空气中吸收二氧化碳和水。可作吸收红外线的发光玻璃添加剂、感光材料中的涂料,以及制钐钻永磁材料和生产金属钐等。 产品参数 中文名 氧化钐? ? ? ? ? 化学式 S
2021-01-07 面议/件