东莞市志凌光电科技有限公司

TE-98氧化鈰抛光粉 ?? ??? ? 概 要 TE-98? 抛光粉是以稀土元素氧化鈰爲主要成份、經日本技術生産而成。 TE-98氧化鈰抛光粉主要用於光学产品研磨、磨耗度450以下软材质精抛。 TE-98氧化鈰抛光粉的原料爲碳酸稀土，和用氟碳鈰精礦做的抛光粉比較，具有氧化鈰濃度高、切削力大、耐久性長等特點。 ? 用 途 精 度要求高的光學研磨、抛光，适用于光学元件等； ?同时适用于表面要求高、

进口索尔维1663，1650抛光粉 品质稳定，悬浮性好，颗粒均匀。

201氧化鈰抛光粉 ?? ? ? 概 要 201? 抛光粉是以稀土元素氧化鈰爲主要成份、經日本技術生産而成。201氧化鈰抛光粉主要用於各类玻璃材质，磨耗度100以上600以下各类光学产品冷加工 201? 氧化鈰抛光粉的原料爲碳酸镧铈稀土，精选原材，具有氧化鈰濃度高、切削力均衡、悬浮性好、耐久性長、研磨精度高等特點。 ? 用 途 用于光学冷加工，光学镜头镜片，棱镜等 特 徵 切削力均衡、悬浮好、不發

ZL300氧化鈰抛光粉 ?? ? ? 概 要 ZL300? 抛光粉是以稀土元素氧化鈰爲主要成份、經日本技術生産而成。ZL300氧化鈰抛光粉主要用於各类玻璃保护片，扫光速度快 ZL300? 氧化鈰抛光粉的原料爲碳酸镧铈稀土，精选原材，具有氧化鈰濃度高、切削力均衡、悬浮性好、耐久性長、扫光精度高等特點。 ? 用 途 用于手机保护片的扫光 特 徵 切削力均衡、不沉淀、不板结，悬浮好、不發生劃傷。 ? 産

ZL-800氧化鈰抛光粉 ?? ? ? 概 要 ZL800? 抛光粉是以稀土元素氧化鈰爲主要成份、經日本技術生産而成。ZL800氧化鈰抛光粉主要用於微晶玻璃盖板的研磨，良率90%以上，如华为P50陶瓷盖板 ZL800? 氧化鈰抛光粉的原料爲碳酸镧铈稀土，精选原材，具有氧化鈰濃度高、切削力均衡、悬浮性好、耐久性長、扫光精度高。 ? 用 途 微晶玻璃盖板抛光 特 徵 切削力大，划伤少，不沉淀不板结，磨

ZL-600氧化鈰抛光粉 ?? ? ? 概 要 ZL600? 抛光粉是以稀土元素氧化鈰爲主要成份、經日本技術生産而成。ZL600氧化鈰抛光粉主要用於各类玻璃材质3D、2.5D等大小盖板扫光、平磨；良率90以上 ZL600氧化鈰抛光粉的原料爲碳酸镧铈稀土，精选原材，具有氧化鈰濃度高、切削力均衡、悬浮性好、耐久性長、扫光精度高等特點。 ? 用 途 要求较高盖板扫光、平磨等平面玻璃表面处理 特 徵 切削