科研实验专用碳化钛靶材TiC磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料 产品介绍 ? ? ? ?碳化钛(TiC)是具有金属光泽的铁灰色晶体,具有很高的化学稳定性,不溶于水,与盐酸、硫酸几乎不起化学反应,但能够溶解于王水,硝酸,以及氢氟酸中,还溶于碱性氧化物的溶液中;硬度仅次于金刚石, 有良好的导热和导电性, 在温度极低时甚至表现出超导性。被广泛用于制造金属陶瓷, 耐热合金、硬质合金、抗磨材料、高温辐射材料以及其
2021-03-23 面议/片科研实验专用氮化钛靶材TiN磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料 产品介绍 ? ? ? ?氮化钛(TiN)熔点:2950℃,密度:5.43-5.44g/cm?,莫氏硬度8-9,抗热冲击性好。其熔点比大多数过渡金属氮化物的熔点高,而密度却比大多数金属氮化物低,因此是一种很有特色的耐热材料。在高温下不与铁、铬、钙和镁等金属反应,TiN坩埚在CO与N2气氛下也不与酸性渣和 碱性渣起作用,因此TiN坩埚是研究刚液
2021-03-23 面议/片科研实验专用碳化钒靶材VC磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料 产品介绍 ? ? ? ?碳化钒(VC)为黑色立方晶体,比石英略硬,熔点:2810℃,沸点:3900℃。可由五氧化二钒用焦炭还原制得。主要用于制造钒钢,可用作碳化物硬质合金添加剂。 产品参数 中文名 碳化钒? ? ? ? ? ?分子式 VC 分子量 62.95? ? ? ? ? ? 沸点 3900℃ 熔点 2810℃? ? ? ? ? ? ?密
2021-03-23 面议/个科研实验专用碲化铋靶材Bi2Te3磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料 产品介绍 ? ? ? ? 碲化铋(Bi2Te3)是一种灰色的粉末,碲化铋是个半导体材料,具有较好的导电性,但导热性较差。虽然碲化铋的危险性低,但是如果大量的摄取也有致命的危险;但此种材料即可允许电子在室温条件下无能耗地在其表面运动,这将给芯片的运行速度带来飞跃,甚至可大大提高计算机芯片的运行速度和工作效率。用于半导体、电子冷冻和发电。
2021-03-23 面议/个科研实验钛靶材Ti磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料 产品介绍 ? ? ? ?钛(Ti)是一种银灰色的过渡金属,密度小,机械强度大,容易加工,有延展性;钛具有可塑性,钛越纯,塑性越大;有良好的抗腐蚀性能,不受大气和海水的影响;常温下钛的化学活性很小,能与氢氟酸等少数几种物质发生反应,但温度增加时钛的活性迅速增加,特别是在高温下钛可与许多物质发生剧烈反应;钛中杂质的存在,显著的影响钛的物理、化学性能、机械
2021-01-07 面议/个? ?二氧化硅靶材 SiO2靶材 磁控溅射靶材? 电子束镀膜蒸发料? ? 纯度:99.99%产品介绍? ? ?二氧化硅,化学术语,纯的二氧化硅无色,常温下为固体,化学式为SiO?,不溶于水。不溶于酸,但溶于氢氟酸及热浓磷酸,能和熔融碱类起作用。自然界中存在有结晶二氧化硅和无定形二氧化硅两种。二氧化硅用途很广泛,主要用于制玻璃、水玻璃、陶器、搪瓷、耐火材料、气凝胶毡、硅铁、型砂、单质硅、水泥等,在古
2021-01-07 面议/个氧化铟掺氧化锡靶材 ITO靶材 磁控溅射靶材? 电子束镀膜蒸发料纯度? 99.99%产品介绍? ? ITO 是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡,ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜,通常有两个性能指标:电阻率和透光率。产品参数? ? 中文名 氧化铟锡? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 别称 ITO? ? 化学式 In2O3-SnO2? ? ? ? ? ? ? ? ? ?分子量 42
2021-01-07 面议/个三氧化二铝靶材? Al2O3靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料纯度? 99.99%产品介绍? ? 氧化铝(aluminium oxide),化学式Al2O3。是一种高硬度的化合物,熔点为2054℃,沸点为2980℃,在高温下可电离的离子晶体,常用于制造耐火材料。产品参数? ? 中文名 氧化铝? ? ? ? ?化学式 Al2O3? ? 分子量 101.96? ? ? ? ?熔点 2054oC? ?
2021-01-07 面议/个三氧化二锑靶材? Sb2O3靶材 磁控溅射靶材? 电子束镀膜蒸发料纯度 99.99%产品介绍? ? ? 氧化锑是一种化学成分,有三氧化二锑Sb2O3和五氧化二锑Sb2O5两种。三氧化二锑为白色立方晶体,溶于盐酸、酒石酸,不溶于水与醋酸。五氧化二锑为淡黄色粉末,难溶于水,微溶于碱,可生成锑酸盐。产品参数? ? ? 中文名 氧化锑? ? ? ? ? ? ? ?化学式 Sb2O3? ? ? 分子量 29
2021-01-07 面议/个