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供应RP100-Ⅱ型平面环抛机RP100-Ⅱ型平面环抛机是属于高精度的平面元件加工设备，可用于光学行业玻璃，硅、金属模具等平面的研磨抛光和加工。 本设备主轴电机采用变频器来实现电机的调速性能，工件环大小可根据需求任意调节，可满足客户加工各种超薄超厚的元件需求，有同时工作的三个工位，每个工位都有课自行修正工作台面的磨盘套，磨盘套内可放置不同重量的配重盘。 本设备工作台面采用 天然花岗岩，平稳性好，加工面形好，噪音低，是光学冷
2018-02-01 0 -
供应单面加压磨抛机SPP160-4A型单面加压磨抛机主要用于硅片、玻璃、机械密封件金属和非金属等超硬材料的单面研磨抛光。 ?本设备机床采用大功率蜗轮减速箱，大型推力球轴承,变频调速驱动系统出力扭矩大,?启动、停止平稳无冲击。计数自动控制,?当达到预置时自动停车。 压盘可自动调整平行，故能较好地实现工件的单面研磨,每个工件环可通过设置于台面下方的压力调节阀单独调整压力。???? ???????主?要?技?术?参
2014-12-17 0 -
供应GP120型高精度研磨抛光GP120型高精度研磨抛光机主要用于光学玻璃、石英、晶体、金属和非金属高精度的抛光，也可以进行大曲率半径球面透镜的加工。本设备采用两个独立变频无级调速系统,分别控制主轴、摆轴的调速，可自由调节速度转速，调节范围大 采用双电机拖动，上、下研磨盘及内齿圈由一个主电机驱动，变频调速，可以对工作速比进行及时准确控制，能适应不同研磨工艺的要求。 主 要 技 术 参 数： 1．主轴精度 ≤0.02 mm
2013-06-25 0 -
供应RP100-Ⅰ型平面环抛机RP100-Ⅰ型平面环抛机是属于高精度的平面元件加工设备，可用于光学行业玻璃，硅、金属模具等平面的研磨抛光和加工. 设备的夹持臂电机采用调速器，主轴电机采用变频器来实现电机的调速性能，工件环大小可根据需求任意调节，可满足客户加工各种超薄超厚的元件需求. ? 本设备工作台面采用球墨铁，能确保在不同环境以及温差相对较大的情况下精度不受影响，平稳性好，噪音低，能源低，是光学冷加工的理想设备。
2013-06-24 0 -
供应可斜式球面研磨抛光机XXP15-4S型斜轴机主要用于各种球面和曲面，单片或成盘光学零件的精磨抛光工序，也适用于其它硬脆材料的加工。 机床有两组工作单元，工作单元由两组独立控制主轴及对应的压力头组成工作系统。摆架采用气动加压的方式，铁笔杆的运动采用了较为复杂的近似椭圆轨迹，有利于提高机床的加工效率和工件的面型精度。机床的主轴可在0~45°范围内进行倾斜调整，以适应不同曲率镜片的加工需要 ? ? ? 。 主要
2013-06-24 0 -
供应PR30-2S型两轴平面高抛PR30-2S型两轴平面高抛机主要用于玻璃、石英光学元器件的研磨抛光。本设备具有节能、低噪音、效率高、操作方便等优点，加工精度高，主轴、摆轴 可单独调整，摆架采用气缸加压系统加压，是理想的光学冷加工设备。 主要技术参数： 1. 主轴数 2 2. 加工范围 300mm 3. 主轴参数 M27×3 4. 主轴跳动 ≤0.01 mm 5. 主轴转速 0—600 r/
2013-06-24 0 -
供应大单轴研磨抛光机GP160型大单轴研磨抛光机主要用于平面,凹凸球面以及非球面的研磨抛光。本设备采用两个独立变频无级调速系统,分别控制主轴、摆轴的调速，可自由调节速度转速，调节范围大。副摆压力由气动系统控制，也可使用重件调节。 主 要 技 术 参 数： 1．主轴精度 ≤0.02 mm 2. 加工范围 1400 mm 3．主轴转速 6-60r/min 4. 摆频 4-40r/min 5. 主摆可调范围 7
2013-06-24 0 -
供应大型高精度环抛机RP160-Ⅱ型平面环抛机是属于高精度、率的平面元件加工设备，可用于光学行业玻璃，硅、金属模具等平面的研磨抛光和加工。 本设备工件环靠轮座可升降，满足用户加工超厚零件的需求，由于零件大小、自重的轻重、磨擦阻力大小，在靠轮上增加了助旋转系统以减轻磨擦的阻力，保证工件的自然运行，没有停顿的空间来保证工件的精密度，加工零件平面精度可达λ/20 以上。 本设备工作台面采用天然花岗岩不变形，平稳性好，加
2013-06-24 0 -
供应RP80型平面环抛机RP80型平面环抛机可用于光学行业玻璃，硅、金属模具等高精度平面元件产品的研磨抛光。本设备采用济南青大理石磨盘，平稳性好，加工面形好，噪音低，是光学冷加工行业的理想设备。控制系统采用全变频独立调速，工作台面水槽为不锈钢材料。 主 要 技 术 参 数： 1．主轴转速 0-20r/min 2. 较大加工范围 400 mm 3. 重量 800kg 4. 磨盘直径 800 mg 5. 研磨工位
2013-06-24 0
