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供应GP30-2S型两轴研磨抛光GP30-2S型两轴研磨抛光机主要用于光学平面镜、棱镜、透镜、晶体、凹凸球面、金属模具的研磨抛光。本设备特点：变速范围宽，扭矩大，运行平稳，主轴、摆轴各自独立运动，避免同转速调速困难的弊病，是光学加工的理想设备。 主要技术参数： 1. 主轴数 2 2. 加工范围 150 mm 3. 主轴转速 10—400 r/min 4. 主轴锥度 1:8 5. 偏心盘转速
2018-11-08 0 -
供应单轴透镜磨抛机?????GP55型高精度研磨抛光机主要用于石英晶体、硅、光学玻璃、陶瓷片等材料的棱镜、球面镜以及大曲率半径球面透镜的研磨加工或抛光。 ? ?????本设备采用双曲柄运动结构，使铁笔针的运动轨迹为复杂曲线，弥补在磨抛过程中运动轨迹重复的现象和摆臂运动产生的冲击震动，大大提高了研磨抛光的质量。?????本机床采用全变频电机调速，使转速任意调节，可调范围大且运动平稳，通过使用电子预置计数器，研磨的
2018-11-08 0 -
供应CGP15-2S型柱面磨抛机CGP15-2S型柱面磨抛机可用于各种玻璃、金属模具、陶瓷等脆性材料的研磨抛光。本设备采用全变频独立调速，工作台面水槽为全铝合金材料，主副摆为全直线导轨，美观耐用。 主要技术参数： 1. 工作台尺寸 140mm×120mm 2. T形槽规格 11mm×18mm×8mm 3. 往返频率 80 次/min 4. 工作台行程 100mm 5. 重量 300 KG
2018-11-08 0 -
供应高准确四轴透镜磨抛机?GP30-4SH高精密四轴透镜磨抛机主要用于光学玻璃、石英玻璃、晶体等零件平面、球面的研磨和抛光。 本设备采用变频调速，实现了主轴和摆轴无极调速，使设备加工更具灵活性和适应性。 ????另外本设备的主轴、摆轴，转速、时间、压力可根据加工零件的需要分开调整，具有平稳性好，噪音低，操作方便等优点，是光学冷加工的理想设备。 主?要?技?术?参?数： ??1.?主轴数??????????????
2018-11-08 0 -
高精度翻转研磨抛光机? ? ? GP120NC高精度翻转研磨抛光机主要用于各种材料的光学棱镜、透镜、曲面的研磨抛光，通过上下模的更换，可加工各种曲面要求的光学元件。 ??? 设备采用双变频调速系统分开控制主轴转速和双偏心盘转速，调速平稳；主轴磨盘为铸铁磨盘，两偏心盘各带动一个摆杆，同时通过气缸对主摆杆施加一个力，控制顶针向下的压力。 磨液循环回收系统通过对所用磨料的反复利用，可极大地减少光学冷加工过程中磨料的浪
2018-11-08 0 -
供应环抛机RP100-Ⅱ型平面环抛机可用于光学行业玻璃，硅、金属模具等高精度平面元件产品的研磨抛光。本设备工作台面采用 天然花岗岩，平稳性好，加工面形好，噪音低，是光学冷加工行业的理想设备。 主要技术参数： 1. 主轴转速 0—20 r/min 2. 加工范围 400 mm 3. 磨盘直径 1
2018-11-08 0 -
供应GP160型高精度研磨抛光GP160型高精度研磨抛光机主要用于平面,凹凸球面以及非球面的研磨抛光。本设备采用两个独立变频无级调速系统,分别控制主轴、摆轴的调速，可自由调节速度转速，调节范围大。副摆压力由气动系统控制，也可使用重件调节。 主 要 技 术 参 数： 1．主轴精度 ≤0.02 mm 2. 加工范围 1400 mm 3．主轴转速 6-60r/min 4. 摆频 4-40r/min 5. 主摆可调范围 7
2018-02-01 0 -
供应GP80型高精度研磨抛光机GP80型高精度研磨抛光机主要用于平面,凹凸球面以及非球面的研磨抛光。 本设备采用了两个独立变频无级调速系统，分别控制主轴、摆轴的调速。可自由调节速度转速，调节范围大。副摆压力由气动系统控制，也可使用重件调节。 变频调速实现了主轴和摆轴的无极调速，使设备加工更具灵活性和适应性；可旋转铁笔，减少运动阻力，增加了加工厚度范围。 主 要 技 术 参 数： 1．主轴精度 ≤0.01 mm 2.
2018-02-01 0 -
供应大两轴高速透镜磨抛机PR30-2S型两轴平面高抛机主要用于光学平面镜、棱镜、透镜、晶体、凹凸球面、金属模具的研磨和抛光。 ? ?本设备主轴、摆轴可独立控制，并采用变频无极调速，铁笔运动轨迹为圆弧往复运动，铁笔为位置可调，操作灵活、方便。 ? ?本设备具有节能、低噪音、效率高、等优点，加工精度高，摆架采用气缸加压系统加压，是理想的光学冷加工设备。 ? 主?要?技?术?参?数： ? ??1.?主轴数???
2018-02-01 0
