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北京金源新材科技有限公司

主营:磁控溅射靶材,蒸发镀膜材料,高纯金属材料

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  • 氮化钛(TiN)靶材  99.9%
    氮化钛(TiN)靶材 99.9%

    氮化钛(TiN)靶材? 99.9% 纯度:,3N 规格:D50.8X5mm,D76.2X6.35mm,定做 氮化钛陶瓷靶材是一种极硬的镀膜材料, 其熔点2950℃,密度 4.43g/cm?。 具有高熔点、高硬度、良好的化学稳定性和金属润湿性小结构材料,并具有高导电性和超导性。通常用作钛合金、钢、碳化物和铝部件的表面涂层,以改善基材的表面性能。 ?

    2024-08-06 面议/片
  • 氮化硅(Si3N4)靶材 99.99%
    氮化硅(Si3N4)靶材 99.99%

    氮化硅(Si3N4)靶材 99.99% 纯度:99.9% 分子式:Si3N4 分子量:140.28 CAS号:12033-89-5 密度:3.44 折射率:2.1 氮化硅是一种重要结构陶瓷材料,它是一种超硬物质,本身具有润滑性,并且耐磨;为原子晶体;耐热涂层,用于火箭和原子反应堆。 氮化硅陶瓷靶材是通过压制和烧结而成的呈灰色固体材料, 其熔点1900℃,密度 3.20g/cm?。 氮化硅在微加工

    2024-08-06 面议/片
  • 碲化铋(Bi2Te3)靶材 99.99%
    碲化铋(Bi2Te3)靶材 99.99

    碲化铋靶材(Bi2Te3)4N 理化性质碲化铋是一种灰色的粉末,分子式为Bi2Te3。熔点:585?C. 相对分子质量: 800.76. CAS登录号: 1304-82-1. 密度: 7.85g/cm3 (含量不同,密度不同,以实际要求为准.)碲化铋是个半导体材料,具有较好的导电性,但导热性较差。碲化铋为间接带隙半导体,室温禁带宽度0.145eV,电子和空穴迁移率分别为0.135和4.4×10-

    2024-08-06 面议/片
  • 碲化钼(MoTe2)靶材 99.9%
    碲化钼(MoTe2)靶材 99.9%

    碲化钼(MoTe2)靶材 99.9%

    2024-08-06 面议/片
  • 高纯钆(Gd)靶材 99.95%
    高纯钆(Gd)靶材 99.95%

    产品信息 名称: 钆靶材/Gd? 纯度: 99.95% 尺寸:2英寸? 可定制 品牌:?金源新材 优势:?纯度高,导电性能好 工艺:熔炼 包装:真空包装 交货期:3天 运输:顺丰快递 起订量:1片

    2024-08-06 面议/片
  • 高纯铁(Fe)靶材 99.95%
    高纯铁(Fe)靶材 99.95%

    产品信息 名称: 铁靶材/Fe Target 纯度: 99.95% 尺寸: φ50.8*3,φ76.2*3 品牌:?金源新材 优势:?纯度高,导电性能好 用途: 磁控溅射镀膜 工艺: 熔炼 包装:真空包装 交货期:3天 运输:顺丰快递 起订量:1片

    2024-08-06 面议/片
  • 高纯铋(Bi)靶材 99.999%
    高纯铋(Bi)靶材 99.999%

    产品制作工艺 ?北京金源新材新材提供的金属靶材按照生产工艺分为熔炼铸造法和粉末冶金法两种: ? 金属靶材如铝、铜、铁、镍等均采用熔炼铸造工艺,以高纯金属为原料,通过熔炼、锻造、热处理和机械加工而成;产品优势:纯度高,晶粒尺寸小而均匀,表面平整。 ? 难熔金属靶材如钨、钼、钽、铌、铬等均采用粉末冶金工艺,以高纯超细粉末为原料,通过热等静压等工艺加工成坯,轧制热处理,机加工后制成靶材;产品优势:靶材孔

    2024-08-06 面议/片
  • 高纯铒(Er)靶材 99.95%
    高纯铒(Er)靶材 99.95%

    ? ? 产品信息 名称: 铒靶材/Er Target 纯度: 99.9% 尺寸: 2英寸 品牌:?金源新材 工艺:熔炼 包装:真空包装 交货期:3天 运输:顺丰快递 起订量:1片

    2024-08-06 面议/片
  • 高纯钴(Co)靶材 99.95%
    高纯钴(Co)靶材 99.95%

    高纯钴(Co)靶材 99.95%

    2024-08-06 面议/片
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