抛光垫详细说明:产品介绍:又称合成纤维聚合物抛光垫,白色,圆形,硬度85,可替代SUBA600和SUBA800抛光垫。产品用途:用于对玻璃、晶片的粗中抛光,以获得没有缺陷的晶片表面,可以用于陶瓷、砷化镓、磷化铟、硬盘、光学玻璃、金属制品、蓝宝石衬底晶片、碳化硅晶片等材质或工件的粗抛或精抛。
2018-07-20 面议/张阻尼布详细说明:颜色:黑色 厚度:1.2-1.4mm 硬度:60-70背胶:PT背胶 缓冲垫厚度:5mm 形状:圆形规格型号φ380mm φ460mm φ610mm φ640mm φ860mm φ910mm*可按照要求订做任意规格及是否贴背胶产品特点此种抛光皮抛光效果佳,可适用于各种材质的研磨和抛光,抛光后精磨度可达到0.0002,可至镜面效果。产品用途用于对玻璃、蓝宝石、石英、金属材料等的精磨和
2018-07-20 面议/张纳米级抛光液? 50?? 80?? 100?? 120详细说明:纳米级抛光液主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别适合用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英、光学晶体、金属、陶瓷等的抛光。应用领域l 不锈钢、铝件、锌合金件的抛光l LED蓝宝石衬底、晶体、宝石件的抛光l 光学镜头、镜片、光学玻璃、石英件的抛光l 磁头、硬盘件的抛光l 光纤及光伏的抛光l陶瓷抛光
2018-07-20 面议/千克?纳米级抛光液:主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于特别适用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 型号 平均粒径(NM) Sio2含量(%) PH值 比重 密度(g/ml) 稀释比例 ? ? 80纳米 72.0
2018-07-20 面议/公斤?纳米级抛光液:主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于特别适用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 型号 平均粒径(NM) Sio2含量(%) PH值 比重 密度(g/ml) 稀释比例 ? ? 80纳米 72.0
2018-07-20 面议/公斤?纳米级抛光液:主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于特别适用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 型号 平均粒径(NM) Sio2含量(%) PH值 比重 密度(g/ml) 稀释比例 ? ? 80纳米 72.0
2018-07-20 面议/公斤主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于特别适用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 型号 平均粒径(NM) Sio2含量(%) PH值 比重 密度(g/ml) 稀释比例 ? ? 80纳米 72.0 40
2018-07-20 0纳米级抛光液主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别适合用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英、光学晶体、金属等的抛光。应用领域l 不锈钢、铝件、锌合金件的抛光l LED蓝宝石衬底、晶体、宝石件的抛光l 光学镜头、镜片、光学玻璃、石英件的抛光l 磁头、硬盘件的抛光l 光纤及光伏的抛光
2018-07-20 0金刚石单晶微粉是选用优质单晶人造金刚石作为原料,经破碎、整形、提纯、分级、后期精处理等工序生产的一种超硬研磨抛光材料,具有很高的硬度、强度、韧性、导热性能以及良好的热稳定性、抗冲击性等。产品特征l 形状良好,粒度集中,满足传统的研磨抛光等应用领域的要求l 完善的原料控制体系,保证产品的品质稳定性l 先进的生产工艺流程控制,保证产品的品质优越性l 丰富的产品类别,可满足不同客户的需求应用领域★作为精
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