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　　喷涂制备金属靶是利用电弧将靶材材料加热到熔融或半熔融状态，借助高速气体将其雾化，形成小的熔滴，并加速喷射到衬管或衬板表面，快速冷却凝固成金属涂层靶材的过程。非金属和陶瓷靶通常是利用等离子加热粉末材料的方法喷涂制成。靶材熔铸技术可分为三种不同的浇铸形式：无衬管或衬板的整体式甩带浇铸、有衬管或衬板的直接浇铸、分段甩带浇铸再粘结成靶材（Ag等）。

　　热喷涂和熔铸靶材不同的生产过程决定了不同的成本构成。热喷涂靶材的生产成本随靶材厚度的增加而加大，喷涂靶材可以通过调整喷涂工艺获得不同的靶材尺寸，喷涂的时间、消耗的气体和能量是影响其成本的主要因素。而熔铸旋转靶材的成本随厚度变化较小，靶材先熔铸成型，而后机械加工达到尺寸要求。对于不同尺寸的旋转靶材，其原材料和加工成本基本是固定的。

　　国外企业大多使用的是喷涂工艺的旋转阴较靶材，靶材的利用率高，可以到达80%，因而大量节约镀膜成本，喷涂旋转靶材在镀膜行业得到了广泛应用。

      以这款喷涂的旋转硅铝靶为例：  旋转硅铝靶 Rotatable SiAl Alloy target   应用：用于制作SiO2膜、Si3N4膜，主要用于光学玻璃AR膜系，low-e玻璃膜系,半导体电子, TFT, 平面显示. 触摸屏玻璃  产品化学成分和物理性能： 化学式：SiAl成分： SiAl（90：10wt%±2%、25:75wt%） 成型工艺：喷涂 密度:  >2.2g/cm3（>94%） 纯度:  > 99.9% 杂质含量 （单位:  ppm， 总杂质含量≤ 1000ppm)  加工尺寸 长度L 4000MM    厚度T 6-13MM 直型、狗骨型 按客户要求定做