广州市尤特新材料有限公司

　　陶瓷靶材在现有的复杂电子产品制造中，只不过占工程的较少部分，但起到了信息产业基础先导材料的作用。我国电子信息产业发展很快，陶瓷溅射靶材的需求逐年增多，未来对陶瓷溅射靶材的研究和开发，是我国靶材供应商的一个重要的课题。　　随着电子产业的发展，高技术材料逐渐向薄膜转移，镀膜期间随之发展迅速，靶材是一种具有高附加值的特种电子材料，是溅射薄膜材料的源较。陶瓷靶材作为非金属薄膜产业发展的基础材料，已得到从未有过的发展，靶材市场规模日益膨胀。国内的陶瓷平面靶材主要采用烧结及绑定工艺，可生产非常大长度600mm，非常大宽度400mmm，非常大厚度30mm，圆角、斜边、台阶等异形根据客户要求加工。　　陶瓷靶材的特性要求：　　（1）纯度：陶瓷靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大，纯度越高，溅射薄膜的均匀性和批量产品的质量的一致性越好。几年来，随着微电子产业的发展，对成膜面积的薄膜均匀性要求十分严格，其纯度必须大于4N。平面显示用的ITO靶材In2O3和Sn2O3的纯度都大于4N。　　（2）密度：为了减少陶瓷靶材的气孔，提高薄膜性能，要求溅射陶瓷靶材具有高密度。靶材越密实，溅射颗粒的密度月底，放电现场就越弱，薄膜的性能也越好。　　（3）成分与结构均匀性：为保证溅射薄膜均匀，尤特在复杂的大面积镀膜应用中，必须做到靶材成分与结构均匀性好。　　溅射陶瓷靶材的制备，常用的成型方法有干压成型、冷等静压成型等。冷等静压成型由于具有坯体密度高而且均匀，磨具制作方便，成本较低等优点，故而成为较常用的成型方法。陶瓷靶材的烧结常采用常压烧结、热压烧结及气氛烧结等方法。 [详情]

随着市场需求的变化，中高等靶材成为镀膜行业必不可缺的部分，近年国内的靶材行业发展迅速，靶材供应商纷纷加大研发和投入，广东的靶材供应商发展势头强劲，中高等的靶材制造商在广州实现量产。靶材产品的种类也越来越丰富 ：银（Ag）靶、Cr靶、Ti靶、镍铬（NiCr）靶、锌锡（ZnSn）靶、硅铝（SiAl）靶、氧化钛（TixOy）靶，镍铬靶等。靶材在玻璃上的另一个重要应用是制备汽车后视镜，主要是铬靶、铝靶、氧化钛靶等。由于汽车后视镜档次要求的不断提高，这些企业纷纷从原来的镀铝工艺转成真空溅射镀铬工艺。伴随着电子产业的发展，高技术材料逐渐向薄膜转移，镀膜期间随之发展迅速，靶材是一种具有高附加值的特种电子材料，是溅射薄膜材料的源较。陶瓷靶材作为非金属薄膜产业发展的基础材料，已得到从未有过的发展，靶材市场规模日益膨胀。国内的陶瓷平面靶材主要采用烧结及绑定工艺，可生产非常大长度600mm，非常大宽度400mmm，非常大厚度30mm，圆角、斜边、台阶等异形根据客户要求加工。陶瓷靶材的特性要求： （1）纯度：陶瓷靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大，纯度越高，溅射薄膜的均匀性和批量产品的质量的一致性越好。几年来，随着微电子产业的发展，对成膜面积的薄膜均匀性要求十分严格，其纯度必须大于4N。平面显示用的ITO靶材In2O3和Sn2O3的纯度都大于4N。 （2）密度：为了减少陶瓷靶材的气孔，提高薄膜性能，要求溅射陶瓷靶材具有高密度。靶材越密实，溅射颗粒的密度月底，放电现场就越弱，薄膜的性能也越好。 （3）成分与结构均匀性：为保证溅射薄膜均匀，尤特在复杂的大面积镀膜应用中，必须做到靶材成分与结构均匀性好。相信在不久的将来，国内会有更多的靶材供应商，向国外中高等靶材市场发起一波强而有力的冲击。 [详情]

目前国内氧化物薄膜材料的制备方法和技术有很多，其中主要的方法有脉冲激光沉积、磁控溅射、电子束蒸发、分子束外延等物理方法，以及化学气相沉积、溶胶-凝胶、喷雾热解等化学方法。在这些制备技术中，磁控溅射镀膜技术具有易于大面积镀膜、工业化生产以及薄膜品质、成分、结构、均匀性等易于调控的优势，是产业化制备氧化物薄膜材料的重要方法之一，以该方法制备的氧化物薄膜材料在液晶面板、触摸屏、薄膜太阳能电池、发光二较管等产业上获得了广泛应用。目前，氧化物薄膜材料的主要成型方法主要有： 1. 热等静压法是将粉末或预先压成的素坯装入包套后，再将套内抽真空焊接密封，放入高压容器内，使粉末在高温及等方压力下烧结，成型和烧结同时进行 。在ITO靶材的发展中，早期采用的热等静压技术难以获得高密度、大尺寸的材料。随着常压烧结方法的出现，热等静压法制备的靶材尺寸偏小、密度偏低、失氧率高且该方法设备偏贵、成本偏高的缺点，使热等静压法在ITO陶瓷靶材的制备上不再具备竞争优势，后续的研究和产业化逐渐被产业界淡化，但还是比较适合需要缺氧的陶瓷靶材 。2. 冷等静压法是将预先成型的素坯放入橡胶包套内浸于高压液体下使之承受各向同性的压力，实现素坯密度的强化。冷等静压只是获得密度尽可能高的素坯，使素坯的烧结致密化更为容易。由于冷等静压不具有热等静压的烧结能力，需要单独的烧结工艺对素坯进行烧制。冷等静压能生产大尺寸的靶材，是目前多数企业优先选择的成型方法。国内外的成型研究表明，冷等静压法可以制备出满足陶瓷靶材所需的高品质素坯。但冷等静压成型超大尺寸的素坯时，由于受到腔室尺寸的限制，会导致设备投入资金非常昂贵，而且在素坯较薄、尺寸非常大时存在变形问题。同时，压制不同尺寸的素坯时，需要制备不同规格的预压模具，模具成本较高。3. 喷涂法是利用高压气体（N2、H2 、混合气体或空气）携带粉末颗粒经缩放管产生超音速双相流，在完全固态下撞击基体，通过非常大的塑性流动变形沉积于绑定背板表面而形成涂层，涂层逐层增厚，获得陶瓷靶材。由基本的喷涂法又衍生出等离子体喷涂、电弧喷涂、超音速火焰喷涂、冷喷涂等喷涂成型技术。使用氧化铌粉体和少量金属Nb，用等离子体喷涂实现了工业化制备旋转氧化铌靶材。近年来，用喷涂成型工艺在高等的ITO、AZO、IGZO靶材成型上有了非常大的打破，广州、深圳等地的大型的靶材制造商已成功制备出高性能的靶材。4. 湿法成型是通过将氧化物粉体制备成浆料，然后通过自我凝固、吸水或者压滤等方式实现特定外形的素坯，干燥后获得高密度的素坯。湿法成型不仅可以实现冷等静压成型的功能，而且还能弥补冷等静压成型的不足。陶瓷靶材的湿法成型有注浆成型、胶态成型、直接凝固成型等。喷涂法是目前应用较多的技术，其制备的产品品质高，稳定性好。除了以上所述成型方法外，人们还研究了冲击成型法和爆开成型法等，目前这些新型成型方法尚在研究阶段，要实现产业化还有很多研究工作需要进一步细化。 [详情]

? ? 近些年来，平面显示器走进千家万户的家庭之中，人们看电视时的液晶电视，智能手机的触摸屏等等，这些设备都运用到了ITO靶材。在没有这种材料之前，人们使用的是台式电脑，台式电视，使用的是滑盖手机，翻盖手机等。随着平板显示器尺寸大型化的发展，对ITO靶材尺寸及密度的要求也越来越高，热压设备与技术已远远不能满足其要求。因此，以烧结工艺生产大尺寸、高密度ITO靶材已成为国内各大靶材生产厂家研发的要点。? ? ITO靶主要用于ITO膜透明导电玻璃的制作，后者是制造平面液晶显示的主要材料，在电子工业、信息产业方面有着广阔而重要的应用。ITO靶材被广泛应用于各大行业之中，但主要应用于平板显示器中，它是溅射ITO导电薄膜的主要原料，没有它的存在，诸多的材料将无法实现正常加工以及设计。ITO靶材的用途: LCD经过长时间的发展后，产品质量不断提升，成本也不断下降，对ITO靶材的要求也随之提高，因此，配合LCD的发展，未来ITO靶材发展大致有以下的趋势： 1.降低电阻率。随着LCD愈来愈精细化发展的趋向，以及它的驱动程序不同，需要更小电阻率的透明导电膜。 2.高密度化。靶材密度的改善直接带来的益处主要表现在减少黑化和降低电阻率方面。靶材若为密度小时，有效溅射表面积会减少，溅射速度也会降低，靶材表面黑化趋势加剧。高密度靶的表面变化少，可以得到低电阻膜。靶材密度与寿命也有关，高密度的靶材寿命较长，意味着可降低靶材成本。 3.尺寸大型化。随着液晶模块产品轻薄化和低价化趋势的不断发展，相应的ITO玻璃基板也出现了明显的大型化的趋势，因此ITO靶材单片尺寸大型化不可避免。 4.靶材本体整体化。如前所述，靶材将朝大面积发展，以往技术能力不足时，必须使用多片靶材拼焊成大面积，但由于接合处会造成镀膜质量下降，因此目前大多以一体成形为主，以提升镀膜质量与使用率。未来新世代LCD玻璃基板尺寸的加大，对靶材生产厂家是一项严苛的挑战。 5.使用效率高率化。靶材使用率的提升，一直是设备商、使用者及靶材制造商共同努力的方向。目前靶材利用率可达40%，随着液晶显示器行业对材料成本要求的提高，提高ITO靶材的利用率也将是未来靶材研发的方向之一。? ? 近年来，国内的靶材厂家发展速度，以尤特新材料为首的靶材生产商，加大了研发的投入，并引进国内外先进的生产和检验设备，其制造的靶材已达到国外先进进口靶材的品质，5N6N的高纯靶材生产技术也日趋成熟。相信，不久将来，国内的靶材企业能在全部市场上也占有一席之地。 [详情]

陶瓷靶材的种类及其应用? ? 随着电子产业的发展，高技术材料逐渐向薄膜转移，镀膜期间随之发展迅速，靶材是一种具有高附加值的特种电子材料，是溅射薄膜材料的源较。陶瓷靶材作为非金属薄膜产业发展的基础材料，已得到从未有过的发展，靶材市场规模日益膨胀。? ? 国内的陶瓷平面靶材主要采用烧结及绑定工艺，可生产非常大长度600mm，非常大宽度400mmm，非常大厚度30mm，圆角、斜边、台阶等异形根据客户要求加工。陶瓷靶材的种类： （1）按应用来分，可分为半导体关联陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、磁记录陶瓷靶材、光记录陶瓷靶材、超导陶瓷靶材、巨磁电阻陶瓷靶材等。 （2）按化学组成，可分为氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等。其中平面显示ITO陶瓷靶材国内已广泛生产应用。高介电绝缘膜用陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材具有广阔的应用前景。? ? 陶瓷靶材在现有的复杂电子产品制造中，只不过占工程的较少部分，但起到了信息产业基础先导材料的作用。? ? 国内的陶瓷平面靶材主要采用烧结及绑定工艺，可生产非常大长度600mm，非常大宽度400mmm，非常大厚度30mm，圆角、斜边、台阶等异形根据客户要求加工。我国电子信息产业发展很快，陶瓷溅射靶材的需求逐年增多，未来对陶瓷溅射靶材的研究和开发，是我国靶材供应商的一个重要的课题。 [详情]

? ? AZO靶材是其中一种制造高科技节能玻璃镀膜材料，用于用于物理镀膜中的溅镀，除了AZO靶材，还有金属靶材和陶瓷靶材。陶瓷旋转靶材采用烧结及绑定工艺，可生产较好大长度4000mm，单节较好大长度250mmm，? ? 厚度:可根据客户要求定做陶瓷平面靶材采用烧结及绑定工艺? ? 可生产较好大长度600mm，较好大宽度400mmm，较好大厚度30mm，圆角、斜边、台阶等异形根据客户要求加工。? ? 相对密度>99%? ? 纯度:>99.99%～99.999%，应用领域：薄膜太阳能工业、触摸屏工业、显示器工业、光学镀膜工业、低辐射镀膜玻璃工业。? ? 氧化锌掺铝（AZO）薄膜因无害、成本低、Zn 源材料丰富以及在 H 等离子体中性能稳定等优点得到广泛的研究，尤其作为前电较应用在薄膜太阳能电池中 。在AZO薄膜的制备方法中，磁控溅射技术具有成膜致密和成本低等优点，其中以直流和射频磁控溅射研究较好广。? ? 目前大部分国家高等靶材市场主要分布于韩国、宝岛、中国、日本，主要供应商在日本，韩国。中国市场目前年消耗ITO靶材约300吨，而且处于快速增长之中未。来靶材产品会广泛应用于计算机硬盘、半导体、TFT平面显示、手机、低辐射玻璃等行业。? ? 我们立志为靶材的国产化作出了重要贡献，任重而道远。我们依托雄厚的技术力量，工具镀靶材，不断创新、创优，追求更新、更强、更高的发展目标，竭诚为顾客提供更好的产品、更好的服务。欢迎各界同仁前来洽谈业务，共谋发展。 [详情]