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供应CW16B平面准确环拋机本机床主要用于高精度光学玻璃、石英、晶体、金属和非金属高精度平面元件的精磨抛光.机床采用了大功率蜗轮减速器，大型推力球轴承。花岗岩工作台面在不同的环境、不同的温度下变形量极小。机床采用不锈钢的台面, 清洁美观的水槽, 清洗方便，变频调速、出力扭距大。 在工件旋转系统中增加了主动轮旋转机构, 对于加工大型零件起到了很好的自转功能，充分地满足于高精度光学加工工艺的要求。 主要技
2011-09-21 0 -
供应CW16A平面准确环抛机主要用于光学玻璃、石英、晶体、电子元件，金属和非金属高精度平面元件的精磨抛光。本机床采用花岗岩平台，大环型轴承，在重载荷低频率下可长期运行，运行平稳、低噪音、节省能源、加工平面零件精度可达λ/20以上。 主要技术参数： 1、 花岗石直径 1600mm ? 2、 水盆直径 Φ1800 mm
2011-09-21 0 -
供应CW12B本机床主要用于高精度光学玻璃、石英、晶体、金属和非金属高精度平面元件的精磨抛光.机床采用了大功率蜗轮减速器，大型推力球轴承。花岗岩工作台面在不同的环境、不同的温度下变形量极小。机床采用不锈钢的台面, 清洁美观的水槽, 清洗方便，变频调速、出力扭距大。 在工件旋转系统中增加了主动轮旋转机构, 对于加工大型零件起到了很好的自转功能，充分地满足于高精度光学加工工艺的要求。 主要技术参
2011-09-21 0 -
供应CW12A平面精抛机CW12A平面精密环抛机，主要用于光学玻璃、石英、晶体、电子元件、金属和非金属高精度平面元件的精磨抛光。本机床采用花岗岩平台，环型轴承，在重载荷低频率下可长期运行，运行平稳、低噪音、节省能源、加工平面零件精度可达λ/20以上。 主要技术参数： 1、 磨盘直径 1200 mm 2、 水盆直径 Φ1400 mm
2011-09-21 0 -
供应CW10A本机床属高精度光学、电子、活塞环、机械零件等平面元件的研磨抛光设备。 本机采用二种磨盘形式: 一种为花岗岩磨盘, 在不同环境温度变化下变形量极小, 适用于抛光。另一种为铸铁磨盘, 适用于粗磨、精磨。 本机工件卡钳采用前后、左右、升降可调式, 极大地方便不同客户对加工工艺的需求。 机床可按客户需求加装蠕动泵系统, 自动滴注液体, 降低劳动强度, 实现多机操作。 主要技
2011-09-21 0 -
供应CW10C气压弧摆环抛机本设备适合高中低精度光学、电子、活塞环、机械零件等平面元件的单面研磨抛光。采用大功率蜗轮减速箱，大型精密回转轴承, 变频调速功能出力扭距大。调速范围宽，运动平稳，无震动低噪音。主轴、摆架独立变频调速系统，各工位摆幅、压力可分别调整。不锈钢台面、水槽清洁美观、清洗方便。该设备采用平面摆动原理，对零件进行研磨和抛光。工件置于磨盘和顶针之间，靠摩擦力带动工件转动。同时装配在摆架上的顶针带动工件作弧线往复
2011-09-21 0 -
供应CW10A平面准确环抛机本机床属高精度光学、电子、活塞环、机械零件等平面元件的研磨抛光设备。 本机采用二种磨盘形式: 一种为花岗岩磨盘, 在不同环境温度变化下变形量极小, 适用于抛光。另一种为铸铁磨盘, 适用于粗磨、精磨。 本机工件卡钳采用前后、左右、升降可调式, 极大地方便不同客户对加工工艺的需求。 机床可按客户需求加装蠕动泵系统, 自动滴注液体, 降低劳动强度, 实现多机操作。 主要技
2011-09-21 0 -
供应CW08C平面准确环拋机本机床属高精度光学、电子、活塞环、机械零件等平面元件的研磨抛光设备。CW08A平面精磨环抛机采用花岗岩磨盘，CW08B平面精密环抛机在CW08A的基础上增加了主动轮旋转机构, 对于加工零件起到了很好的自转功能，根据用户需要可以安装蠕动泵和搅伴泵，CW08C平面精密环抛机采用铸铁磨盘，安装了加砂循环系统，适用于精磨。 CW08C平面精密环抛机主要技术参数
2011-09-21 0 -
供应CW08B平面准确环拋机本机床属高精度光学、电子、活塞环、机械零件等平面元件的研磨抛光设备。CW08A平面精磨环抛机采用花岗岩磨盘，CW08B平面精密环抛机在CW08A的基础上增加了主动轮旋转机构, 对于加工零件起到了很好的自转功能，根据用户需要可以安装蠕动泵和搅伴泵，CW08C平面精密环抛机采用铸铁磨盘，安装了加砂循环系统，适用于精磨。 CW08B平面精密环抛机主要技术参数 1
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