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? 理想能源以开发半导体设备的严谨态度和精细工艺来设计制造太阳能光伏设备。自2010年3月成功开发出靠前台LPCVD设备以来,理想能源的设备已经在客户处平稳运行至今。理想能源的设备具有以下特点 (加插图1及插图2): ? ? 精细稳定:所镀氧化物薄膜厚度可在100-1700纳米范围内自由设定,膜厚均匀性低于10% ? ? 高产能:根据所镀膜厚度不同,镀膜节拍范围40-170秒,设备有效工
2011-05-18 0