溅射靶材种类繁多,就ITO导电玻璃中使用硅靶.铝靶.铌靶等三种以上。显示行业主要在显示面板和触控屏面板两个产品生产环节需要使用靶材溅射镀膜。用于高清电视、笔记本电脑等。平板显示靶材技术要求也很高,它要求材料高纯度、面积大、均匀性程度高。铝、铜、钼、铬等,主要应用于薄膜太阳能电池,太阳能靶材技术要求高、应用范围大。靶材的核心功能是作为沉积薄膜的溅射源,按材质可分为金属靶、陶瓷靶与合金靶,其下游应用主
2024-08-04 面议/套什么是高纯溅射靶材?就是利用各种高纯单质金属及新型化合物制得的功能薄膜为(简单理解就是纯度更高)。在光学器件领域。WSTS预计,2018年半导体规模增速达12.4%。特别是存储器市场。增速高达61.49%。一方面,存储芯片需求旺盛,价格大幅上涨,另一方面,物联网、汽车电子、AI等新应用拉动下游需求。半导体材料主要分为晶圆制造材料和封装材料,料包括硅片(37%)、光刻胶、光刻胶配套试剂、湿电子化学品
2024-08-04 面议/套ITO靶、AZO靶,氧化镁靶、氧化铁靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、硫化镉靶,硫化钼靶,二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶,二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三氧化钨靶,三氧化二铝靶,五氧化二钽靶,五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、氟化镁靶,硒化锌靶、氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍
2024-07-31 面议/套什么是磁控溅射镀膜靶材?磁控溅射镀膜是一种新型的物相镀膜方式,就是用电子系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。溅射靶材有金属,合金,陶瓷,硼化物等。溅射靶材主要应用于电子及信息产业。光学器件应用范围非常广泛,主要包括智能手机、车载镜头、安防监控设备、数码相机、光碟机、投影机等,元器件及光学镜头。 ?
2024-07-31 面议/套? ? 镍铂合金溅射靶材在半导体制造中的应用及发展趋势。金属硅化物具有不错的高温舒缓反应性以及良好的导电、导热性,已广泛应用于半导体制造中作为优良的接触材料。随着金属硅化物的不断发展,主要的硅化物已从钛、钴硅化物逐步发展到低电阻、低耗硅量以及低形成温度的镍硅化物。镍铂硅化物薄膜在半导体制造中的应用,广泛应用于开关电源、变频器、驱动器等电路中。随着肖特基二极管工艺不断发展,金属硅化物-硅接触已取代了
2024-07-31 面议/套? ? 除了光照及电应力会影响a-IGZOTFT的稳定性外,其对空气中的氧气和水蒸气也较为敏感,长处于潮湿空气中会使其性能发生明显下降。同时,IGZO背沟道表面在薄膜制备过程或者环境中容易受到,也是其稳定性不高的原因之一。IGZOTFT电学特性在氢氧环境中也会发生衰退。2016年大部分国家高纯溅射靶材市场规模约为113.6亿美元,预计到2019年,大部分国家高纯溅射靶材市场规模将超过163亿美元,
2024-07-31 面议/套? ? ? 靶材可分为:长靶、方靶、圆靶。按应用领域不同可分为:半导体芯片靶材、平面显示器靶材、太阳能电池靶材、信息存储靶材、工具改性靶材、电子器件靶材、其他靶材。溅射:即集成电路制造过程中要反复用到的工艺;靶材:就是溅射工艺中必不可少的重要原材料。那么,不同应用领域,对材料的选择及性能要求也有一定差异,Low-E玻璃具有可以阻止空气由热向冷传递的特性,其指标有:辐射率、可见光透射比、遮阳系数、传
2024-07-31 面议/套? ? ? 氧化铟中仅添加了氧化锡的ITO,由于烧结时蒸气压高,采用利用蒸发和凝缩来烧结的机构,难以产生收缩,烧结体致密化困难。镀膜时,若片材的密度过低,则在照射电子束时材料从表面蒸发出来并同时引起靶材的急剧烧结,存在由局部片材收缩所引起的靶材破损问题。另一方面,若靶材密度过高,则在照射电子束时靶材的表面和内部产生温度差,并因热膨胀的差异而发生靶材破损(由热冲击引起的破损)的问题。若发生靶材破损,
2024-07-31 面议/套? ? ? 靶材,特别是高纯度溅射靶材应用于电子元器件制造的物理-气相沉积工艺(PVD)、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。所谓溅射,是制备薄膜材料的主要技术,也是PVD的一种。它通过在PVD设备中用离子对目标物进行轰击,使得靶材中的金属原子以一定能量逸出,从而在晶圆表面沉积,溅镀形成金属薄膜,其中被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。 ? ? ? 薄膜太阳能电池比传统的晶体硅太
2024-07-31 面议/套