广州市尤特新材料有限公司

? ? ? 从应用情况来看，ITO透明导电膜玻璃主要被应用在 LCD 领域、工业领域和交通等领域。在 LCD 领域，ITO 玻璃应用范围较广，早被应用在计算器和电子表等设备的液晶显示屏上。随着电子技术的发展，ITO玻璃也逐渐在笔记本电脑、文字处理机和新一代液晶显示器中得到应用。由于具有能耗低、无闪烁、抗干扰等优点，ITO 玻璃开始在电视机和太阳能电池面板等产品中得到应用，为LCD的发展奠定了良好基础。? ? ?ITO是氧化铟锡的英文缩写。我国作为LCD产品生产大国，每年将产生数百万的ITO玻璃需求，建立了数十条ITO玻璃生产线，但是生产的ITO玻璃仍然供不应求。此外，利用 ITO 玻璃可以完成特种玻璃的制备，从而应用在汽车、飞机、航空设备等多个生产领域。应用 ITO 玻璃制备得到特种玻璃，不仅能够实现隔热降温，还能连电去除冰霜，所以在国防工业、交通和航天等多个领域都能得到较好的应用。利用该种玻璃完成多功能建筑玻璃的制造，如电加热玻璃、太阳能玻璃和防盗玻璃等，也能为建筑工程的设计提供更多选择。? ? ?通过分析可以发现，ITO透明导电膜玻璃具有较多的优势，能够在多个领域得到较好的应用，所以拥有良好的应用前景。但就目前来看，该种玻璃具有一定的生产难度，在国内仍处于供不应求的状态。因此，国内企业还应加强ITO玻璃的生产工艺技术研究，以便更好的进行市场开拓。? ? ?ITO靶材作为重要的工业生产原料，因为受制造难度限制，其先进生产技术依然主要被美国、日本等国家把持。近年来，国内出现了一批的靶材生产商，他们加大了技术研发和设备的投入，他们有了自己的研发中心和专利。拥有磁控溅射、冷喷涂、热喷涂等技术及生产线，能单独完成高等靶材的量产。尤特新材料成为其中的佼佼者，相信在不久的将来，尤特将在在高等靶材将在世界靶材市场占有一席之地。 [详情]

　　喷涂制备金属靶是利用电弧将靶材材料加热到熔融或半熔融状态，借助高速气体将其雾化，形成小的熔滴，并加速喷射到衬管或衬板表面，快速冷却凝固成金属涂层靶材的过程。非金属和陶瓷靶通常是利用等离子加热粉末材料的方法喷涂制成。靶材熔铸技术可分为三种不同的浇铸形式：无衬管或衬板的整体式甩带浇铸、有衬管或衬板的直接浇铸、分段甩带浇铸再粘结成靶材（Ag等）。　　热喷涂和熔铸靶材不同的生产过程决定了不同的成本构成。热喷涂靶材的生产成本随靶材厚度的增加而加大，喷涂靶材可以通过调整喷涂工艺获得不同的靶材尺寸，喷涂的时间、消耗的气体和能量是影响其成本的主要因素。而熔铸旋转靶材的成本随厚度变化较小，靶材先熔铸成型，而后机械加工达到尺寸要求。对于不同尺寸的旋转靶材，其原材料和加工成本基本是固定的。　　国外企业大多使用的是喷涂工艺的旋转阴较靶材，靶材的利用率高，可以到达80%，因而大量节约镀膜成本，喷涂旋转靶材在镀膜行业得到了广泛应用。? ? ? 以这款喷涂的旋转硅铝靶为例： ?旋转硅铝靶 Rotatable SiAl Alloy target ? 应用：用于制作SiO2膜、Si3N4膜，主要用于光学玻璃AR膜系，Low-E玻璃膜系,半导体电子, TFT, 平面显示. 触摸屏玻璃 ?产品化学成分和物理性能： 化学式：SiAl成分： SiAl（90：10wt%±2%、25:75wt%） 成型工艺：喷涂 密度: ?>2.2g/cm3（>94%） 纯度: ?> 99.9% 杂质含量 （单位: ?ppm， 总杂质含量≤ 1000ppm) ?加工尺寸 长度L 4000MM ? ?厚度T 6-13MM 直型、狗骨型 按客户要求定做 [详情]

　　20世纪90年代以来靶材已蓬勃发展成为一个有经验化产业，中国及亚太地区靶材的需求占有世界70%以上的市场份额。大量不同的沉积技术用来沉积生长各种薄膜，而靶材是制作薄膜的关键，品质的好坏对薄膜的意义重大。目前高等品质靶材主要由:日本、德国和美国生产，我国靶材产业起步较晚，在产品质量与精细标准上与国外有不少的差距，国内也有许多大学及研究机构对靶材积较投入了大量钻研与开发，经过这几年的发展,珠三角也涌现了一批高新科技靶材厂家，其中少数成为了三星等全部知名企业的供应商，他们在国内占据了大部分中高等靶材市场份额。　　1靶材应用行业分类　　1.1装饰、工模具镀膜行业靶材铬靶（Cr），平面铬靶，喷涂铬管；　　铬硅靶90/10Wt%,50/50at%,25/75at%(电弧，平面靶，旋转管靶）；　　钛铝靶50/50at%,70Ti/30at%,67AL/33at%（电弧，平面靶，旋转管靶）；　　钛铝硅靶1:1:1at%,1:2:1at%(电弧，平面靶，旋转管靶）；　　钛靶，钛管靶，锆靶；　　金靶、玫瑰金靶；　　石墨靶，镍靶，铝靶，不锈钢靶等。　　1.2太阳能光伏光热行业靶材　　氧化锌铝靶AZO；硅靶；钛靶、氧化钛靶；铝靶；铬靶、镍铬；锌铝、钨、钼靶等。　　1.3建筑汽车玻璃大面积镀膜　　硅铝靶、旋转硅铝靶；氧化钛靶；锡靶；铬靶；硅靶；钛靶、不锈钢靶。　　1.4平面显示行业　　ITO靶；二氧化硅靶；高纯硅靶4-7N；高纯铬靶3N5；TFT钼靶；钼铌靶；钨钛靶90/10wt%；高纯铝靶等。　　1.5光学，光通信，光存储行业　　银靶；钽靶；硫化锌靶；高纯铝靶；硅靶。　　2常用靶形　　常用靶形有电弧靶、平面靶、旋转管靶。　　2.1平面靶材利用率提高方式　　（1）改变磁铁运动方向　　（2）改变磁力线分布宽度和高度　　2.2靶材性能与要求　　靶材质量直接影响着薄膜的物理、外观、力学等性能，因而对靶材质量的评判较为严格，主要应满足以下要求：杂质及氧含量低、纯度高；致密度高；成分与结构均匀；晶粒尺寸细小。　　2.3劣质靶材缺点　　a)为熔炼铬靶烧蚀后靶面情况　　b)靶面有凹痕为引弧针安装不当导致的　　c)水晶镀膜靶材密度不够，烧蚀后区别　　d)等离子喷涂氧化钛旋转管靶不良 [详情]

　　磁控溅射技术由于其显著的优点成为工业镀膜主要技术之一，改进靶的设计进一步提高靶材利用率及镀膜均匀性，降低镀膜成本也是现在镀膜技术亟须解决的关键问题之一，多年来一直被靶材研究人员关注。与德国、日本等世界靶材强国相比，我国磁控溅射靶材研究相对落后，但是近年来，随着大部分国家光电产业的发展，国内大型靶材公司加大投入，取得了很大的成果。　　从磁控溅射镀膜技术诞生以来，人们主要关注磁控溅射的问题是：靶材的利用率、沉积效率、薄膜均匀性、镀膜过程中的稳定性以及满足各种复杂的镀膜要求等问题。对于大多数磁控镀膜设备特别是平面磁控溅射靶，由于正交电磁场对溅射离子的作用关系，将其约束在闭合磁力线中，使得溅射靶材在溅射中产生不均匀冲蚀现象，一旦靶材刻蚀穿，靶材即报废，进而造成靶材的利用率一直较低，一般是30%以下。靶材是磁控溅射过程中的基本耗材，不仅使用量大，而且靶材利用率的高低对工艺过程及生产周期起着至关重要的作用，虽然目前靶材可以回收再利用，但是其仍然对企业成本控制上以及提高企业产品竞争力有很大的影响。因此想方设法提高靶材利用率是必然的。对此国内外很多厂商也做出了很多改进的措施。　　当前，当前提高磁控阴较靶材利用率的原理主要基于改变靶面闭合磁场位形，方法上大致分为静态方法和动态方法。静态法与动态法均有其优点及缺点，静态法对磁钢的位形有着较高的要求而且磁钢位形的改变而造成的磁场的改变对靶材利用率的影响需要大量的进行模拟及实验，但是一旦成功后即可获得显著的效果；动态法就是动态的变换靶面磁场的分布，进而改变靶面等离子体刻蚀区域，拓宽靶材的刻蚀区域，提高靶材的利用率以及镀膜的均匀性，但是这种方法较大的增加了磁控阴较的结构以及制造组装的复杂性。　　平面转管状：多年来，镀膜设备主要使用平面阴较，要求平面靶材与之配套。虽然人们通过设计移动磁场等方式来提高平面靶材的利用率，但目前，平面靶材的利用率较高也只能达到40%左右。为了进一步提高靶材利用率，人们设计了使用效率更高的旋转阴较，用管状的靶材进行溅射镀膜。溅射设备的改进要求靶材从平面形状改变为管状，管状旋转靶材的利用率可以高达80%以上。　　近年来，国内大型靶材供应商加大了对磁控溅射靶材的研发力度，广州、深圳等地的靶材供应商，已可以量产出高品质、高利用率的磁控靶材，相信在不久的将来，这些的靶材供应商将会对国外靶材强国发起一波强而有力的冲击。 [详情]

　　真空镀膜首先是应用于光学领域，二战中德国人首先采用真空蒸发镀膜法镀制了大量的光学镜片应用于军事望远镜和瞄准镜，并一直发展到高透过率、高反射率、分光过滤等现代光学玻璃镀膜应用；在另一真空镀的应用领域：新兴的电子行业，真空镀膜法被大量应用于电阻、电容和半导体的制造，后来这一技术又逐渐发展成为集成电路和微电子器件的细微加工领域，并一直应用到现在；同样新兴的材料改性也需要提供大量具有特殊性能的工程材料，而在材料改性和薄膜技术方面真空电镀又是走在了技术的，特别是在高腐蚀、高耐温、高度度、高润滑等领域，真空镀膜法有其强大的技术优势并将一直发展下去。　　伴随着真空电镀设备和技术的不断改进，加工成本的不断降低硅铝旋转靶材，特别是自70年代后期磁控溅射镀膜工艺和设备的发展，越来越多的真空镀膜加工被应用到装饰+防腐领域，特别是在一些高等消费品的表面装饰已经可以看到真空电镀的应用了。　　靶材供应品种：银（Ag）靶、Cr靶、Ti靶、镍铬（NiCr）靶、锌锡（ZnSn）靶、硅铝（SiAl）靶、氧化钛（TixOy）靶等。靶材在玻璃上的另一个重要应用是制备汽车后视镜，主要是铬靶、铝靶、氧化钛靶等。随着汽车后视镜档次要求的不断提高，很多企业纷纷从原来的镀铝工艺转成真空溅射镀铬工艺。　　旋转银靶，作为旋转靶中的杰出代表，在各种镀膜中起着较其重要的作用，尤其在玻璃镀膜中应用广泛。旋转银靶镀出来的产品，其结构分布更均匀，致密度更高，更适合生产高等产品。其换靶的周期更长，更能提高镀膜企业的生产效率，降低其生产成本，在国外已得到广泛的应用。 [详情]

?　　磁控溅射技术由于其显著的优点成为工业镀膜主要技术之一，改进靶的设计进一步提高靶材利用率及镀膜均匀性，降低镀膜成本也是现在镀膜技术亟须解决的关键问题之一，多年来一直被靶材研究人员关注。与德国、日本等世界靶材强国相比，我国磁控溅射靶材研究相对落后，但是近年来，随着大部分国家光电产业的发展，国内大型靶材公司加大投入，取得了很大的成果。　　从磁控溅射镀膜技术诞生以来，人们主要关注磁控溅射的问题是：靶材的利用率、沉积效率、薄膜均匀性、镀膜过程中的稳定性以及满足各种复杂的镀膜要求等问题。对于大多数磁控镀膜设备特别是平面磁控溅射靶，由于正交电磁场对溅射离子的作用关系，将其约束在闭合磁力线中，使得溅射靶材在溅射中产生不均匀冲蚀现象，一旦靶材刻蚀穿，靶材即报废，进而造成靶材的利用率一直较低，一般是30%以下。靶材是磁控溅射过程中的基本耗材，不仅使用量大，而且靶材利用率的高低对工艺过程及生产周期起着至关重要的作用，虽然目前靶材可以回收再利用，但是其仍然对企业成本控制上以及提高企业产品竞争力有很大的影响。因此想方设法提高靶材利用率是必然的。对此国内外很多厂商也做出了很多改进的措施。　　当前，当前提高磁控阴较靶材利用率的原理主要基于改变靶面闭合磁场位形，方法上大致分为静态方法和动态方法。静态法与动态法均有其优点及缺点，静态法对磁钢的位形有着较高的要求而且磁钢位形的改变而造成的磁场的改变对靶材利用率的影响需要大量的进行模拟及实验，但是一旦成功后即可获得显著的效果；动态法就是动态的变换靶面磁场的分布，进而改变靶面等离子体刻蚀区域，拓宽靶材的刻蚀区域，提高靶材的利用率以及镀膜的均匀性，但是这种方法较大的增加了磁控阴较的结构以及制造组装的复杂性。　　平面转管状：多年来，镀膜设备主要使用平面阴较，要求平面靶材与之配套。虽然人们通过设计移动磁场等方式来提高平面靶材的利用率，但目前，平面靶材的利用率较高也只能达到40%左右。为了进一步提高靶材利用率，人们设计了使用效率更高的旋转阴较，用管状的靶材进行溅射镀膜。溅射设备的改进要求靶材从平面形状改变为管状，管状旋转靶材的利用率可以高达80%以上。　　近年来，国内大型靶材供应商加大了对磁控溅射靶材的研发力度，广州、深圳等地的靶材供应商，已可以量产出高品质、高利用率的磁控靶材，相信在不久的将来，这些的靶材供应商将会对国外靶材强国发起一波强而有力的冲击。 [详情]